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专利名称：沉积微滴的装置专利类型：发明专利
发明人：梅尔文·L·比格斯,史蒂文·H·巴斯,保罗·A·霍伊辛顿申请号：CN200480018612.8申请日：20040614公开号：CN18151A公开日：20060809
摘要：本发明公开了一种将微滴沉积在基片上的装置。该装置包括一用于基片的支承件；包括泵送腔的一微滴喷射组件；一控制器和将泵送腔中的总压力保持在阈值压力水平以上以避免在泵送腔中发生整流扩散式的气泡生长的一静压力源。该微滴喷射组件位于支承件上方，用于将微滴沉积在基片上，并且除了泵送腔以外，还包括一移位件和一喷射微滴的喷孔。所述控制器向该移位件提供信号，以喷射微滴。
申请人：迪马蒂克斯股份有限公司
地址：美国新罕布什尔州
国籍：US
代理机构：北京市柳沈律师事务所
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