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专利名称：耐UV染料的制作方法及对应的涂布型染料偏光片专利类型：发明专利发明人：闫春秋,邵源
申请号：CN201711240185.3申请日：20171130公开号：CN107916017A公开日：20180417
摘要：本发明提供一种耐UV染料的制作方法，其包括：提供一偶氮染料结构；提供一耐UV改性基团；以及在液晶染料混合溶液中，使用耐UV改性基团对偶氮染料结构进行耐UV改性操作，以得到耐UV的改性偶氮染料；本发明还提供一种涂布型染料偏光片。本发明的耐UV染料的制作方法及对应的涂布型染料偏光片通过在涂布型染料偏光片上涂布可吸收UV紫外线的耐UV染料，避免了涂布型染料偏光片受到UV光照射的影响。
申请人：深圳市华星光电技术有限公司
地址：518132 广东省深圳市光明新区塘明大道9-2号
国籍：CN
代理机构：深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙)
代理人：黄威
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