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专利名称：双端磁控溅射离子镀膜机专利类型：实用新型专利
发明人：彭传才,魏敏,胡云慧,田雨时,刘重光,金昭廷,黄广连申请号：CN94237225.5申请日：19940427公开号：CN2186249Y公开日：19941228
摘要：本实用新型涉及的是一种双端磁控溅射离子镀 膜机，由真空室和传输机构组成。其中真空室包括 前、后锁室、溅射区、隔离区和压差室，真空室内设置 有加热装置和溅射靶、偏压装置，在前锁室上开有入 口，后锁室上开有出口，在真空室壁上设有穿越口。 本实用新型具有长度尺寸小，从而投资小，生产节拍 快，具有多种功能，既可以镀热反射玻璃，也可以镀低 辐射玻璃，还可以在瓷砖、钢板上镀膜以及在有一定 曲面的板上镀膜，且膜的附着力，膜厚的均匀性都明 显改善，从而大大提高产品的质量。
申请人：长沙国防科技大学八达薄膜电子技术研究所
地址：410073 湖南沙市国防科技大学四系
国籍：CN
代理机构：湖南省专利服务中心
代理人：乔清杰
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